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溅射气压和沉积时间对c-BN薄膜结构的影响
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采用磁控反应溅射方法,在Si(100)衬底上沉积c-BN薄膜.研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响.结果表明.随溅射气压的升高或沉积时间的增加,都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果,并导致薄膜中c-BN相含量的减小.
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来源 ：
功能材料
ISSN： 1001-9731
年份： 2002
期： 1
卷： 33
页码： 82-83
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