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摘要:
在高温和大栅电流下,对TiAl栅和TiPtAu栅MESFET的稳定性进行了比较研究,结果表明:(1)两种器件的击穿电压稳定,栅Schottky接触二极管理想因子n变化不明显;(2)TiAl栅的MESFET的栅特性参数(栅电阻Rg,势垒高度Φb)变化明显,与沟道特性相关的器件参数(如最大饱和漏电流Idss,栅下沟道开路电阻R0,夹断电压Vp0等)保持相对不变;(3)对TiPtAu栅MESFET来说,栅Schottky二极管特性(栅电阻Rg,势垒高度Φb)保持相对稳定,与沟道特性相关的器件参数(如最大饱和漏电流Idss,栅下沟道开路电阻R0,夹断电压Vp0、跨导gm等)明显变化,适当退火后,有稳定的趋势。这两种器件的参数变化形成了鲜明的对比。
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