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张万荣 (张万荣.) | 李志国 (李志国.) | 程尧海 (程尧海.) | 高玉珍 (高玉珍.) | 孙英华 (孙英华.) | 陈建新 (陈建新.) | 沈光地 (沈光地.)

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摘要:

在高温和大栅电流下,对TiAl栅和TiPtAu栅MESFET的稳定性进行了比较研究,结果表明:(1)两种器件的击穿电压稳定,栅Schottky接触二极管理想因子n变化不明显;(2)TiAl栅的MESFET的栅特性参数(栅电阻Rg,势垒高度Φb)变化明显,与沟道特性相关的器件参数(如最大饱和漏电流Idss,栅下沟道开路电阻R0,夹断电压Vp0等)保持相对不变;(3)对TiPtAu栅MESFET来说,栅Schottky二极管特性(栅电阻Rg,势垒高度Φb)保持相对稳定,与沟道特性相关的器件参数(如最大饱和漏电流Idss,栅下沟道开路电阻R0,夹断电压Vp0、跨导gm等)明显变化,适当退火后,有稳定的趋势。这两种器件的参数变化形成了鲜明的对比。

关键词:

性能 砷化镓金属-半导体肖特基势垒场效应晶体管 稳定性

作者机构:

  • [ 1 ] [张万荣]北京工业大学
  • [ 2 ] [李志国]北京工业大学
  • [ 3 ] [程尧海]北京工业大学
  • [ 4 ] [高玉珍]北京工业大学
  • [ 5 ] [孙英华]北京工业大学
  • [ 6 ] [陈建新]北京工业大学
  • [ 7 ] [沈光地]北京工业大学

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来源 :

固体电子学研究与进展

ISSN: 1000-3819

年份: 2001

期: 2

卷: 21

页码: 216-221

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