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摘要:

用GSMBE法生长了Si/SiGe/Si异质结构材料.采用双台面结构制造了SiGe/Si NPN异质结晶体管.在发射结条宽为4μm,面积为4μm×18μm的条件下,其共发射极直流放大倍数为75,截止频率为20GHz.给出了结构设计、材料生长和器件制作工艺.

关键词:

Si/SiGe HBT 双台面结构 气态源分子束外延

作者机构:

  • [ 1 ] [邹德恕]北京工业大学
  • [ 2 ] [徐晨]北京工业大学
  • [ 3 ] [陈建新]北京工业大学
  • [ 4 ] [史辰]北京工业大学
  • [ 5 ] [杜金玉]北京工业大学
  • [ 6 ] [高国]北京工业大学
  • [ 7 ] [沈光地]北京工业大学
  • [ 8 ] [黄大定]中国科学院半导体研究所
  • [ 9 ] [李建平]中国科学院半导体研究所
  • [ 10 ] [林兰英]中国科学院半导体研究所

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来源 :

半导体学报

ISSN: 0253-4177

年份: 2001

期: 8

卷: 22

页码: 1035-1037

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