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作者:

吴现成 (吴现成.) | 贺德衍 (贺德衍.) | 王博 (王博.) | 严辉 (严辉.) | 陈光华 (陈光华.)

收录:

CQVIP PKU CSCD

摘要:

采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明薄膜同时含有α-C3N4和β-C3N4晶相以及未知结构.傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)表明薄膜内的C-N, C=N和 C≡N 键的吸收峰分别位于1237,1625和2191cm-1.利用扫描电子显微镜(SEM)观测到线度约为2μm、横截面为六边形的β-C3N4晶粒.纳米压痕法测得薄膜的硬度最高可达72.66GPa.

关键词:

X射线衍射 化学气相沉积 扫描电镜 氮化碳薄膜 硬度

作者机构:

  • [ 1 ] [吴现成]兰州大学
  • [ 2 ] [贺德衍]兰州大学
  • [ 3 ] [王博]北京工业大学
  • [ 4 ] [严辉]北京工业大学
  • [ 5 ] [陈光华]北京工业大学

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来源 :

人工晶体学报

ISSN: 1000-985X

年份: 2000

期: 3

卷: 29

页码: 275-279

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