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[期刊论文]
氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究
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研究了氮离子注入CVD金刚石薄膜的场电子发射行为 .实验表明 ,稳定发射的形成过程基本具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征 ,并提出了一种修正的激活模型 ,解释了实验结果 ,讨论了发射机理 .
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Access Number
CNKI:ZJSF200001006
Language
Chinese
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1999，功能材料
2014，材料工程
2002，无机材料学报
Source ：
湛江师范学院学报(自然科学版)
Year： 2000
Issue： 01
Page： 20-22
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 0
Affiliated Colleges：
理学部 物理与光电学院
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