Abstract：
研究了氮离子注入CVD金刚石薄膜的场电子发射行为 .实验表明 ,稳定发射的形成过程基本具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征 ,并提出了一种修正的激活模型 ,解释了实验结果 ,讨论了发射机理 .
Keyword：
Reprint Author's Address：
Email：
Source ：
湛江师范学院学报(自然科学版)
Year： 2000
Issue： 01
Page： 20-22
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 0
