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李蕊 (李蕊.) | 胡冬青 (胡冬青.) | 吴郁 (吴郁.) | 贾云鹏 (贾云鹏.) | 苏洪源 (苏洪源.) | 屈静 (屈静.) | 匡勇 (匡勇.)

摘要:

本文针对150V功率MOSFET,利用电荷耦合概念,采用双层外延漂移区结构,对器件进行了设计与仿真:设置哑元胞,在导通电阻增加很少的情况下降低饱和压降,将起电荷耦合作用的垂直RESURF场板与源电极相连降低栅漏电容.在此基础上仿真研究电荷耦合区与非耦合区掺杂浓度(分别为N1、N2)的匹配,从而在阻断电压和导通电阻间达到最佳匹配;并仿真研究槽深的影响,给出优化结果.

关键词:

仿真分析 电荷耦合功率 结构设计 金属氧化物半导体器件

作者机构:

  • [ 1 ] [李蕊]北京工业大学
  • [ 2 ] [胡冬青]北京工业大学
  • [ 3 ] [吴郁]北京工业大学
  • [ 4 ] [贾云鹏]北京工业大学
  • [ 5 ] [苏洪源]北京工业大学
  • [ 6 ] [屈静]北京工业大学
  • [ 7 ] [匡勇]北京工业大学

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年份: 2014

页码: 348-351

语种: 中文

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