摘要：
为了减低薄膜的厚度,提高光的透过率,达到提高效率、降低成本的目的,用ZnO:Al(AZO)薄膜逐渐代替目前电池结构中用于前电极的Zn0:B(BZO).与目前BZO的制备成本相比,AZO的制备成本将降低5％.利用磁控溅射设备工艺调试及优化过程中的双层AZO薄膜,通过选取适当位置利用稀盐酸进行刻蚀实验,探讨各沉积参数如衬底温度、溅射功率、刻蚀时间及上下层厚度比等对双层AZO薄膜刻蚀形貌和透光性能的影响,并对刻蚀后的AZO薄膜进行退火、湿热等方面的研究,以探索其稳定性,最终获得制备高速率沉积的具有强光散射特性的绒面表面结构的高透射高导电ZnO:Al(AZO)薄膜.
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