本文利用溶液降温法分别在新设计的生长装置和传统晶体生长装置中进行了KDP晶体生长实验,并通过对KDP晶体的生长条件进行对比,分析了新设计的生长装置对KDP溶液稳定性的影响。在晶体的生长过程中,在新设计的生长装置中晶体是由溶液底部向上生长,而且由于搅拌杆上的叶片对溶液的充分搅拌,因此没有杂晶的形成,提高了溶液的稳定性,这是和传统生长方法最大的不同之处,也是这个生长设备的独特之处。传统方法生长速度慢,易出杂晶,溶液稳定性差,在新设计的生长装置中较好的解决了这些问题,用新的生装置进行了KDP晶体生长,有效地加快了KDP晶体的生长,平均生长速度达到6.00mm/d,生长出了尺寸达40mm×40mm×1...