＜正＞伴随　MEMS　技术的飞速发展而出现的负性放大胶　SU-8光胶,由于具有良好的光刻性能并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用。众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm　激光对　SU-8胶进行曝光,分别采用　XPS　谱和　FT-IR　谱分析了　SU-8　胶与激光相互作用过程中,355nm　激光对　SU-8胶的作用以及反应前后主要成分含量、分子结构的变化,初步探讨了　SU-8胶中激光曝光能量与透入深度的关系。