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张晓康 (张晓康.) | 邓金祥 (邓金祥.) (学者:邓金祥) | 王瑶 (王瑶.) | 陈光华 (陈光华.) | 贺德衍 (贺德衍.)

摘要:

<正>立方氮化硼(c-BN)是一种物理,化学、机械性能非常优异的宽带隙半导体材料。然而,c-BN 薄膜生长条件十分苛刻,制备参数窗口十分狭窄,因此很难高重复性制备高质量本征 c-BN 薄膜。我们对 BN 系统中各相向立方相的相变作了初步的讨论,确定在c-BN 薄膜成核与早期生长过程中,

关键词:

“三步法” 立方氮化硼薄膜 立方相 三步法 射频溅射 沉积过程

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学材料学院
  • [ 2 ] 北京工业大学应用数理学院
  • [ 3 ] 兰州大学物理科学与技术学院

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年份: 2007

语种: 中文

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