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郜志华 (郜志华.) | 陈光华 (陈光华.) | 李志中 (李志中.) | 邓金祥 (邓金祥.) (学者:邓金祥) | 丁毅 (丁毅.)

摘要:

采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(MW-ECR CVD)法,BF3-H2-N2-Ar为反应气体,制备立方氮化硼薄膜。应用傅立叶红外光谱 (FTIR),定性地研究通入的H2和N2流量对制备的立方氮化硼薄膜结构的影响。发现在BF3-H2-N2-Ar 气体系统中,H2对立方氮化硼薄膜结构的影响比较明显,而N2的影响没有那么明显。并对MW-ECR CVD 制备立方氮化硼薄膜的结构特性进行了初步分析。

关键词:

气体系统 立方氮化硼 MW-ECR CVD BF3-H2-N2-Ar

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学材料学院
  • [ 2 ] 北京工业大学应用数理学院
  • [ 3 ] 兰州大学物理学院

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年份: 2006

语种: 中文

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