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陈浩 (陈浩.) | 邓金祥 (邓金祥.) (学者:邓金祥) | 刘钧锴 (刘钧锴.) | 田凌 (田凌.) | 陈光华 (陈光华.)

摘要:

<正> 氮化硼(BN)薄膜是有着广泛应用前景的Ⅲ-Ⅴ族化合物薄膜,它主要有两个稳定相,即立方氮化硼(c-BN)和六角氮化硼(h-BN)。其中,h-BN有着类似于石墨的层状结构,质地比较软,可以用作润滑剂:另外,h-BN有着很高的电阻率,绝缘性好,加上其物理和化学的稳定性,可以用作许多电子器件的绝缘膜;此外,h-BN在X光及可见光区域透明,还可以作为透明绝缘层用于电致发光器件。而对于c-BN薄膜,它是一种理想的新型宽带隙(Eg≈6.6eV)半导体薄膜材料,具有高的电阻率、高的热稳定性和高的热导率以及与Si、GaAs接近的热膨胀系数,使之可以成为很好的热沉材料。无论是h-BN还是c-BN薄膜都可以...

关键词:

I-V n-BN/p-Si 特性研究 异质结

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学材料科学和工程学院
  • [ 2 ] 北京工业大学应用数理学院
  • [ 3 ] 兰州大学物理科学与技术学院

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年份: 2005

语种: 中文

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