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[会议论文]

热丝辅助MW ECR CVD法高速沉积优质氢化非晶硅薄膜

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Author:

吴越颖 (吴越颖.) | 胡跃辉 (胡跃辉.) | 阴生毅 (阴生毅.) | Unfold

Abstract:

我们用热丝辅助MW ECRCVD系统,在热丝温度分别为0、1350、1400、1450、1500、1600和1700℃时制备出a-Si:H薄膜。通过膜厚测定,红外光谱分析光、暗电导测量等手段,分析了其沉积速率、光敏性及光学带隙的变化规律。结果表明沉积速率和薄膜质量均得到明显的提高,沉积速率超过3nm/s,光暗电导之比提高到6×105。找到最佳辅助热丝温度为1450℃。通过对带隙值的分析,发现当带隙值在1.6-1.7范围内时,薄膜几乎都具有105以上的光暗电导之比。

Keyword:

热丝 光敏性 a-Si:H薄膜 沉积速率

Author Community:

  • [ 1 ] 北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室

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Source :

Year: 2004

Language: Chinese

Cited Count:

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30 Days PV: 1

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