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[会议论文]
提高MWECR-CVD沉积a-Si:H薄膜速度的新方法
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本文介绍了一种在沉积室样品台下方放置永磁体单元,以提高微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积速度的新方法。实验表明,采用这一方法可使沉积a-Si:H薄膜的速度提高一倍以上。
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年份： 2003
语种： 中文
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材料与制造学部 材料科学与工程学院
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