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MWECR CVD制备氢化非晶硅薄膜的微结构研究
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Fourier红外透射(FTIR)谱技术和透射—反射光谱实验是研究氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜中氢含量和光学带隙等微结构最有效的手段。样品用微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECR CVD)方法制备,通过合理的基线把FTIR透过率谱转换成吸收谱,得到薄膜的氢含量及组态信息,并分析其与衬低温度、氢稀释比以及光学带隙的对应关系。
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会议名称
2003年中国太阳能学会学术年会
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会议时间
2003-06-30
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CNKI:ZGTN200300001061
语言
中文
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来源 ：
年份： 2003
语种： 中文
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