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[会议论文]
MWECR CVD制备氢化非晶硅薄膜的微结构研究
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Fourier红外透射(FTIR)谱技术和透射—反射光谱实验是研究氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜中氢含量和光学带隙等微结构最有效的手段。样品用微波电子回旋共振化学气相沉积(MWECR CVD)方法制备,通过合理的基线把FTIR透过率谱转换成吸收谱,得到薄膜的氢含量及组态信息,并分析其与衬低温度、氢稀释比以及光学带隙的对应关系。
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年份： 2003
语种： 中文
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材料与制造学部 材料科学与工程学院
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