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膜结构的截面优化在MSC/NASTRAN上的二次开发

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作者:

陈继华 (陈继华.) | 隋允康 (隋允康.) | 杜家政 (杜家政.)

摘要:

本文研究了膜结构在尺寸、应力和位移约束条件下的截面优化问题。以膜的厚度为设计变量,结构的重量最轻为目标,应力约束转化为动态尺寸下限,位移约束化为一阶近似,用对偶二次规划建立优化模型,采用序列二次规划SQP方法求解。使用二次规划算法求解器,求得对偶变量的解,经过转换、迭代最终得到满足尺寸、应力和位移约束的最优膜结构厚度。利用MSC/PCL语言将该算法在MSC/NATRAN上进行了程序实现,开发了新的优化模块。算例结果表明了程序的可靠性和精确性。

关键词:

对偶规划 多约束 截面优化 二次规划 二次开发

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学机电学院数值模拟中心

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来源 :

年份: 2003

语种: 中文

被引次数:

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