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宋道颖 (宋道颖.) | 宋雪梅 (宋雪梅.) | 陈蔚忠 (陈蔚忠.) | 冯贞健 (冯贞健.) | 芦奇力 (芦奇力.) | 鲍旭红 (鲍旭红.) | 陈光华 (陈光华.)

摘要:

<正>a-Si:H薄膜在太阳能电池、薄膜晶体管、大面积平面显示和传感器等光电器件上有广阔的应用前景.近来,为了获得高质量、高沉积速率的a-Si:H薄膜,MW ECR CVD在国际上越来越受到人们重视.与其它几种传统的CVD技术相比,MW ECR CVD具有以下特点:运行气压低,ECR等离子体的工作气压一般在10~(-2)~IPa;能量转化率高,95%以上的微波能量

关键词:

a-Si:H CVD ECR MW ECR CVD

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室

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年份: 2001

语种: 中文

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