高级检索
检索提示：高级检索多个条件检索时是按照顺序运算的：如 A或B与C 即:(A或B)与C
[会议论文]
原位氮掺杂对CVD金刚石薄膜生长和结构的影响
作者：
摘要：
以氮气为杂质源,采用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)技术进行了金刚石薄膜的原位掺杂,研究了氮掺杂对CVD金刚石薄膜的形貌结构和生长行为的影响.运用SEM、XRD和FTIR等手段对样品进行分析表征。实验结果表明,原位氮掺杂的CVD金刚石薄膜的晶面显露、晶粒尺寸、致密性和生长速率等均强烈地依赖于反应气体中氮源浓度比;如果氮源气体流量适当,杂质氮不仅能进入金刚石薄膜晶格中,还能与薄膜中碳原子形成化学键结合.
关键词：
作者机构：
通讯作者信息：
电子邮件地址：
相关关键词：
相关文章：
2002，真空科学与技术学报
2002，真空科学与技术
2017，第19届全国分子筛学术大会
2014，材料工程
来源 ：
年份： 2001
语种： 中文
被引次数：
WoS核心集被引频次： 0
SCOPUS被引频次：
ESI高被引论文在榜： 0 展开所有
万方被引频次：
中文被引频次：
近30日浏览量： 6
归属院系：
材料与制造学部 材料科学与工程学院
全文获取
外部链接：
