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[会议论文]
用于热印头的溅射Crsi(w)-N高阻膜WBruckner,J-1 Monch and K-H Bather
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摘要：
＜正＞采用其空沉积鬲电阻率发热元素,在热印头应用方面已得到发展,它是利用反应溅射Crsi(w)-N的方法。在膜系组织的温度特性和载荷分析研究方面利用温度计及dc与脉冲载荷作升级应力试验,表现出如高电阻,低电阻温度系数(TCR)、高温稳定性和抗氧化性,自钝化性能以及对满足工业要求很有利的材料自稳定作用等综合性能特点。
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来源 ：
年份： 1994
语种： 中文
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