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严辉 (严辉.) | 陈光华 (陈光华.) | 黄世平 (黄世平.) | 郭伟民 (郭伟民.)

收录:

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摘要:

利用metalvaporvacuumarc离子源产生的C+离子,注入单晶Si衬底,得到了SiC埋层.利用X射线光电子能谱,研究了SiC埋层中Si2p的特征能量损失谱.结果表明:Si2p的特征能量损失谱依赖于SiC埋层中C原子的浓度分布,并且与SiC埋层的有序度对应.

关键词:

SiC 浓度分布 特征能量 离子注入

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学应用物理系
  • [ 2 ] 香港中文大学电子工程系
  • [ 3 ] 香港中文大学化学系

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来源 :

物理学报

年份: 1998

期: 05

页码: 3-5

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