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Si-SiGe/SiHBT真流特性的解析模型与模拟

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作者:

张万荣 (张万荣.) | 罗晋生 (罗晋生.) | 李志国 (李志国.) | 展开

收录:

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摘要:

在考虑了重掺杂效应、异质结势垒效应、各物理量随温度变化以及背注入空穴电流、BE结空间电荷区复合电流、中性基区复合电流对基极电流贡献后,对Si/SiGe/SiHBT的常温和低温直流特性进行了解析模拟.给出了T=77K和300K时的Si/SiGeHBTGummel图和电流增益β与集电极电流密度Jc的关系.研究了基区少子寿命对的影响.模拟显示,Si/SiGe/SiHBT在小电流和中等电流下有良好的常温和低温直流特性,在大电流下,由于异质结势垒效应的存在,电流增益β严重退化.

关键词:

应变层 晶体管 异质结 电流增益

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学电子工程学系
  • [ 2 ] 西安交通大学微电子研究所

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来源 :

北京工业大学学报

年份: 1998

期: 02

页码: 3-5

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