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高选择渗透性硅膜及其特性
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一种具有高选择渗透性的新型硅膜由硅树脂膜裂解制成.膜对H_2,O_2,N_2等气体的渗透系数约10~2～10~3Barrer,H_2/N_2和O_2/N_2分离因子分别为11～13和3～4.这种硅基膜适合于低于300℃的含氧环境下工业气体的分离.
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1997，北京工业大学学报
来源 ：
北京工业大学学报
年份： 1997
期： 03
页码： 99-104
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环境与生命学部 环境与能源工程学院
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