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[期刊论文]
硫掺杂C_(60)薄膜电学性质研究
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对硫掺杂C60薄膜样品在433K进行真空退火,并测量了其电导率随温度的变化关系.发现硫掺杂后C60薄膜的电导激活能减小,电导率显著增大.电导率随温度的变化曲线在368K到388K的范围内,存在一个电导率与温度的关系不严格遵循指数规律的过渡区,在过渡区的两侧硫掺杂的C60薄膜则表现出明显的半导体特性,这是由于在不同温度范围内样品中硫分子的结构相变所引起的
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1999,半导体学报
2013,催化学报
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来源 :
物理学报
年份: 1997
期: 06
页码: 144-148
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理学部 物理与光电学院
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