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作者:

谭家骏 (谭家骏.)

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摘要:

在这篇文章中报导了多层Si/TiSi_2—Al和Si/TiSi_2(TiN)—W—Al系的研究情况。在研究过程中应用了透射电子显微镜(TEM),X射线微量分析和卢瑟夫反向散射波谱学测定法(RBS)来测定多层膜系的形成条件和分析膜系层的成分,相互扩散情况以及交界面上的结构,从而,揭示形成最大热稳定性多层系的条件。

关键词:

Si/TiSi_2 TiN 交界面 分界面 合金系 夹杂物 热稳定性 硅化物

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学 北京 100022

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来源 :

国外金属热处理

年份: 1995

期: 04

页码: 7-12,21

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