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铝合金基板上磁控溅射离子镀氮化钛膜层的研究
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摘要：
对自行研制的一台磁控溅射离子镀实验裴置的放电特性进行了测试,并用该装置在硬铝(LY16)基板上进行了沉积氮化钛膜层的工艺试验,系统地研究了各工艺参数对膜层性能的影响。试验结果表明:在较低温度(120～140℃)条件下,用磁控溅射离子镀工艺可以在铝合金基体上得到组织致密质量较好的膜层,其硬度值可以达到Hv2200kg/mm~2,且仍能保持基体时效强化的强度。
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来源 ：
北京工业大学学报
年份： 1988
期： 03
页码： 1-7
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材料与制造学部 材料科学与工程学院
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