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陈颜 (陈颜.)

摘要:

<正>1.在普通双曝光全息干涉计量中,两次曝光之间使物体产生离面倾斜.便可实现波前纵向剪切.全息再现时,两束物光波产生的干涉场强度分布为:I(x,y)=A[1+cos((4π/λ)α(x~2+y~2)~(1/2)sinθ)](1)式中A为常数,λ为再现光波长,θ为物光波的入射角,α为物面倾斜角.物面倾斜可用一个矢量α来表示,它的大小为物面倾斜角α的大小,方向垂直物面倾斜的转轴,指向光路差增加的一边,如图1.图1中O为倾斜前的物体表面,O'为倾斜后的物体表面,(?)为物体倾斜

关键词:

干涉条纹 离面位移

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学应用物理系

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来源 :

中国激光

年份: 1988

期: 10

页码: 634-636

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