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作者:

徐敏 (徐敏.) | 郑基立 (郑基立.) | 郭厚林 (郭厚林.)

摘要:

用全息法在光致抗蚀剂涂层上制作光栅,涉及到所用的激光光源、干涉仪系统和光敏记录介质。在现有条件下,对一个刻划面积约80×40mm~2的光栅,可以得到波前象差1/6λ,30%的衍射效率,分辨率为理论值的75%和无鬼线强度。

关键词:

光刻胶 光谱学 全息法 干涉仪系统 激光器

作者机构:

  • [ 1 ] 北京工业大学
  • [ 2 ] 北京光学仪器厂

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来源 :

北京工业大学学报

年份: 1980

期: 01

页码: 63-68

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