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一种铬掩膜版透明缺陷激光透射微修补的方法
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一种基于铬掩膜版微透明缺陷进行修补的方法属于微加工领域。本发明主要是采用纳米级的铬粉，通过紫外激光透射过有微透明缺陷的铬掩膜版聚焦于其下方的铬粉，然后通过对激光参数的控制，使激光聚焦处的铬粉汽化、熔化以及发生反应，从而在有微透明缺陷的地方淀积上一层薄膜。本发明设备和工艺简单，修复效率高，成本低廉，并且安全性和环保性有所保障。该方法主要用于有直径50um及以上的圆形和线宽35um及以上的线型微透明缺陷的铬掩膜版的修复。
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专利基本信息 ：
专利类型： 发明申请
申请(专利)号： CN201310110332.0
申请日期： 2013-04-01
公开(公告)日： 2013-08-07
公开(公告)号： CN103233217A
申请(专利权)： 北京工业大学
法律状态： 授权
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