A　method　for　improving　uniformity　of　high-frequency　discharge　plasma　in　a　frequency　modulation　manner.　In　a　plasma　discharge　chamber　(1),　　for　a　pair　of　parallel　electrodes　(2),　　a　high-frequency　power　supply　(3)　is　adopted　to　feed　power　to　the　electrodes,　　the　frequency　range　of　the　electromagnetic　field　being　between　13.56　MHz　and　160　MHz.　A　discharge　gas　is　filled　to　form　plasma.　The　frequency　fed　to　the　high-frequency　electromagnetic　field　is　controlled　through　automatic　tuning.　During　the　plasma　discharge,　　the　frequency　thereof　keeps　changing　cyclically,　　the　change　range　of　the　frequency　is　a　part　contained　inside　13.56　MHz　to　160MHz,　　or　is　the　entire　range　between　13.56　MHz　and　160　MHz,　　so　that　cyclic　change　occurs　at　a　position　with　high　plasma　density　on　a　plane　parallel　to　the　electrodes　in　a　plasma　discharge　space.　In　the　time　period　of　more　than　one　frequency　change　cycle,　　the　average　plasma　density　between　the　parallel　electrodes　is　uniform.