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戴洪兴 (戴洪兴.) (学者:戴洪兴) | 刘雨溪 (刘雨溪.) | 张磊 (张磊.) | 邓积光 (邓积光.) | 石凤娟 (石凤娟.) | 赵振璇 (赵振璇.)

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一种制备三维有序大孔BiVO4的抗坏血酸辅助胶晶模板法,属于功能材料技术领域。采用以PMMA微球为硬模板(胶晶模板),以抗坏血酸为表面活性剂(偏钒酸铵∶抗坏血酸摩尔比为1∶1-2),以乙二醇、甲醇、硝酸和去离子水的混合液为溶剂,以硝酸铋和偏钒酸铵为金属源,将含有以上表面活性剂、溶剂和金属盐的混合溶液浸渍PMMA后,经焙烧后制备具有单斜白钨矿结构的三维有序大孔BiVO4。本发明具有原料廉价易得,制备过程简单,产物形貌和孔尺寸可控等特征。本发明制备的单斜白钨矿结构BiVO4具有多孔结构的特点和较高的比表面积,在光催化剂、电极材料、离子导体材料等等方面具有良好的应用前景。

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专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN201110222316.1

申请日期: 2011-08-04

公开(公告)日: 2012-01-04

公开(公告)号: CN102303906A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 未缴年费

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