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一种改进压焊结构的半导体激光器
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一种改进压焊结构的半导体激光器,属于半导体光电子技术领域。包括衬底、N型限制层、N型波导层、多量子阱有源区、P型波导层、P型限制层、P型欧姆接触层构成的外延片结构;且利用湿法腐蚀将外延片两侧腐蚀P型欧姆接触层到P型限制层,深度范围为:400nm-600nm,从而形成脊形台,在半导体激光器芯片背面脊形台两侧对应的的位置腐蚀出压焊点。本实用新型提供的压焊方法接触面积大,不损伤表面,压焊方便。
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专利基本信息 :
专利类型: 实用新型
申请(专利)号: CN201220721626.8
申请日期: 2012-12-24
公开(公告)日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN203150900U
申请(专利权): 北京工业大学
法律状态: 授权
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