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韩晓东 (韩晓东.) (学者:韩晓东) | 刘攀 (刘攀.) | 张跃飞 (张跃飞.) (学者:张跃飞) | 岳永海 (岳永海.) | 张泽 (张泽.)

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本发明涉及一种在透射电子显微镜中原位测量纳米材料力电性能的装置 及方法。本发明利用光刻技术制作纳米材料样品,将其转移、固定到双金属 片载网上,在双金属片上镀一层金属薄膜作为电极,用导线将电极引到透射 电镜样品杆上,对绝缘环加热和对金属薄膜通电,使载网中的双金属片发生 热膨胀弯曲变形,实现对固定在双金属片上的纳米材料拉伸或压缩变形,可 以在原子点阵分辨率下,原位测量应力状态下单体纳米材料力电学性能与显 微结构的相关性。本发明提供了一种针对目前半导体及信息工业占统治地位 的自上而下技术(Top-Down)的有效而简单的应力状态下单体纳米材料原位 实时动态的力学-电学-显微结构相关性测量的装置与方法。

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专利基本信息 :

专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN200810240516.8

申请日期: 2008-12-19

公开(公告)日: 2009-06-24

公开(公告)号: CN101464244A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 未缴年费

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