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吉元 (吉元.) | 钟涛兴 (钟涛兴.) | 郭汉生 (郭汉生.) | 徐学东 (徐学东.) | 张虹 (张虹.) | 权雪玲 (权雪玲.)

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摘要:

本发明涉及一种在扫描电子显微镜中,注入微量 氧气,在氧环境中对非导电材料直接进行观察和分析的方法及 系统。特征在于:在扫描样品前,将微量活性氧气注入样品室 内,以减小和消除非导电样品荷电现象。注入氧气前先选择真 空模式,氧气通过减压阀减压,用真空计和真空规监测样品室 内的真空度,由针阀继续降低氧气流量;注入的氧气对扫描电 镜系统真空度的影响非常小,实现了在不同真空模式下的氧环 境观察条件;配合氧环境扫描电子显微方法的氧气微注入系统 设置在样品室侧壁上,主要包括有供气回路、真空检测系统及 吸收电流测试系统。本发明完成了简便而有效地消除氧化物、 氢氧化物等类非导电样品进行电子显微分析时产生荷电效应 的目的。

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专利基本信息 :

专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN200410078331.3

申请日期: 2004-09-24

公开(公告)日: 2005-03-02

公开(公告)号: CN1587978A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 撤回

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