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提高电子回旋共振化学气相沉积速度的方法及 装置属于微波低温等离子体技术领域。包括有微波源、真空密 封、薄膜沉积、真空泵系统、磁场产生及气路、气体控制部分， 磁场产生是在位于谐振腔壁外放置单并磁场线圈，产生电子回 旋共振等离子体所需的轴向磁场位形，本发明的特征在于，是 在沉积室内放置了可在样片台(12)上方产生均匀轴向磁场的的 永磁体单元(13)，该单元不仅体积小，在沉积室有较大的移动 空间，并且轴向磁场变化大，使得轴向磁场位形在靠近永磁体 时发生显著变化，使得谐振腔及沉积室的轴向磁场位形由单并 线圈和永磁体单元组合共同形成和调节。这种磁场位形决定了 其在电子回旋共振条件下产生的等离子体可获得高的薄膜沉 积速度。
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