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陈洪芳 (陈洪芳.) | 王煜 (王煜.) | 汤亮 (汤亮.) | 张爽 (张爽.) | 石照耀 (石照耀.) (学者:石照耀)

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摘要:

本发明公开了一种基于直反射三光路激光外差干涉的渐开线样板测量方法,属于精密测量领域,根据渐开线生成原理的几何特性,求取渐开从齿根到齿顶过程中,基圆运动的距离。求取理论上双基圆盘运动位移。双基圆盘样板的渐开线曲线方程。基于激光外差干涉的双基圆盘式渐开线样板测量系统测得基圆柱的位移。直反射三光路激光外差干涉系统实际测量得到的渐开线齿廓和理想渐开线齿廓。基于直反射三光路激光外差干涉的渐开线样板测量结果;对测量结果进行样板精度等级评定。本发明突破渐开线样板高精度测量技术的瓶颈,并建立基准渐开线齿形误差的测量方法,为渐开线量值传递体系的建立、实现量值溯源国家标准提供技术支持。

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专利基本信息 :

专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN202010193248.X

申请日期: 2020-03-18

公开(公告)日: 2020-06-09

公开(公告)号: CN111256615A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 授权

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