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张忻 (张忻.) | 肖怡新 (肖怡新.) | 刘洪亮 (刘洪亮.) | 张久兴 (张久兴.)

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本发明公开了一种步进电机辅助电化学腐蚀制备场发射单尖的方法,属于阴极场发射技术领域。本发明采用步进电机辅助电化学浸润腐蚀制备单晶稀土六硼化物场发射单尖,通过调节步进电机的上下移动速率和位移,腐蚀电压和时间,使得单晶稀土六硼化物样品腐蚀和非腐蚀部位的腐蚀极化过电位产生明显差别,从而有效克服了电化学腐蚀制备单尖过程中样品与腐蚀液的手动浸润过程及腐蚀存在的杂散腐蚀现象,减小了单尖制备受人为影响的因素,提高了单尖形貌的均匀性和规则度以及制备的效率,进而改善和提高单尖阴极场发射性能,使得单晶稀土六硼化物场发射单尖作为电子源在扫描电镜、电子束光刻系统等真空电子设备领域具有广阔的运用前景。

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专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN201811213293.6

申请日期: 2018-10-18

公开(公告)日: 2019-02-19

公开(公告)号: CN109360778A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 授权

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