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秦振平 (秦振平.) | 周敬源 (周敬源.) | 郭红霞 (郭红霞.) (学者:郭红霞) | 安全福 (安全福.) (学者:安全福) | 张国俊 (张国俊.) | 纪淑兰 (纪淑兰.)

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一种MoS2/聚电解质杂化纳滤膜及其制备方法,属于膜分离技术领域。包括以下步骤:制备PDDA表面修饰的纳米MoS2;配置阴离子聚电解质溶液和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质溶液;通过阴离子聚电解质和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质之间的静电作用层层自组装技术,得到MoS2/聚电解质杂化纳滤膜。MoS2是一种类石墨烯的二维层状材料,具有独特的片层状结构。制备MoS2过程中,加入聚二甲基二烯丙基氯化铵(PDDA)使其表面荷正电,并提高分散稳定性,在自组装过程中能均匀分散在膜中,得到一种MoS2分散性能较优的杂化纳滤膜,对染料水溶液显示优异的分离去除率和通量。

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专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN201710727782.2

申请日期: 2017-08-23

公开(公告)日: 2017-12-19

公开(公告)号: CN107486045A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 授权

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