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孙晟 (孙晟.) | 金冬月 (金冬月.) | 张万荣 (张万荣.) | 吴玲 (吴玲.) | 曹路明 (曹路明.) | 贾晓雪 (贾晓雪.)

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一种等温分布的介质槽隔离结构SiGe HBT阵列,应用于无线通信系统、全球定位系统等射频功率集成电路中。由M×N个SiGe HBT单元构成,且每个单元均包含浅槽隔离结构和共用的深槽隔离结构。其中深槽隔离结构用于相邻单元间的隔离,浅槽隔离结构用于单元内部电极间隔离。同时,依据各单元位于SiGe HBT阵列中的位置,浅槽隔离结构深度由中心处向四周呈增大的对称分布;深槽隔离结构距单元中心处长度或宽度按照由中心向两侧呈线性减小的对称分布。与常规SiGe HBT阵列相比,本发明所述SiGe HBT阵列可有效改善各单元峰值结温分布和功率分布均匀性,进而实现稳态和瞬态热效应的同时改善。

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专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN201911128738.5

申请日期: 2019-11-18

公开(公告)日: 2020-04-28

公开(公告)号: CN111081702A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 实质审查

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