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张跃飞 (张跃飞.) (学者:张跃飞) | 屠金磊 (屠金磊.)

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本实用新型公开一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,包括沉积真空室,沉积真空室两端连接放卷真空室和收卷真空室,放卷真空室内设置有放卷辊,放卷辊连接有放卷磁流体,放卷磁流体通过放卷磁粉离合器连接有放卷伺服电机;收卷真空室内设置有收卷辊,收卷辊连接有收卷磁流体,收卷磁流体通过收卷磁粉离合器连接有收卷伺服电机;放卷辊和收卷辊上用于缠绕基带;沉积真空室上下两侧分别交错设置有多个热电偶和加热器;沉积真空室上设置有匀气座;沉积真空室、放卷真空室和收卷真空室上分别开设有抽气口。本实用新型提供的原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,后使原子层沉积简单方便,效率高。

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专利基本信息 :

专利类型: 实用新型

申请(专利)号: CN201821863344.5

申请日期: 2018-11-13

公开(公告)日: 2019-06-18

公开(公告)号: CN208995596U

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 授权

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