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毋立芳 (毋立芳.) (学者:毋立芳) | 赵立东 (赵立东.) | 邱健康 (邱健康.) | 高源 (高源.) | 毛羽忻 (毛羽忻.) | 张子明 (张子明.) | 施远征 (施远征.) | 郭小华 (郭小华.)

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摘要:

一种面向面曝光3D打印的模型自适应光照均匀化方法涉及智能化控制和图像识别技术领域。该方法包括如下步骤:数据测量;数据分析:对每一个位置下的各图像子块测量得到的光照功率数据进行分析,得到该位置下的图像子块的光照功率随灰度变化的规律;确定每个切片的可曝光区域,查找可曝光区域对应子块的对应功率,把最小的功率设置为最适功率, 在每一个可曝光区域子块中查找最适功率对应的灰度,其中非曝光区域的灰度设置为最低灰度,把所有的灰度信息保存到灰度信息矩阵的相应位置;根据灰度信息矩阵与原始切片灰度数据进行图像融合。本发明可以提高曝光的均匀性和精密性,同时具有可移植性和可打印性。因此,本发明具有一定的应用价值和意义。

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专利基本信息 :

专利类型: 发明申请

申请(专利)号: CN201610590005.3

申请日期: 2016-07-25

公开(公告)日: 2016-12-14

公开(公告)号: CN106228598A

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 授权

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