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[会议论文]
铈基抛光粉/液的CMP制备及应用
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1.化学机械抛光(CMP)简介2.CMP铈基抛光粉的制备及表征3.CMP铈基抛光液的组成及表征方法4.CMP铈基抛光粉/液的应用
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Conference Name
2021国际产学研用合作会议（南昌）
Organizers
Place
中国江西南昌
Date
2021-06
Sponsor
Classification
Type
Project Name
Project No.
Access Number
CNKI:ZGXT202106001038
Language
Chinese
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Source ：
Year： 2021
Language： Chinese
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ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
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Chinese Cited Count：
30 Days PV： 0
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