高级检索
检索提示：高级检索多个条件检索时是按照顺序运算的：如 A或B与C 即:(A或B)与C
[会议论文]
硅基锗异质薄膜的制备及其椭圆偏振光谱测试研究
作者：
摘要：
利用射频磁控溅射法制备了硅基锗异质薄膜，并对薄膜进行退火研究.利用椭圆偏振光谱对不同射频溅射功率下硅基锗异质薄膜的折射率和消光系数进行了测试和研究.使用HORIBA MM-16型椭圆偏振光谱仪以70.0°入射角和430～850nm 扫描光谱范围对退火前后的锗薄膜的光学常数(相位差和振幅比)进行测量，并基于软件DeltaPsi 2 对测量结果进行建模处理，得到样品的折射率和消光系数随入射光子能量的变化关系曲线.
关键词：
作者机构：
通讯作者信息：
电子邮件地址：
相关关键词：
相关文章：
2014，真空
2014，物理学报
2013，TFC'13全国薄膜技术学术研讨会
2012，中国光学学会2011年学术大会
来源 ：
年份： 2016
页码： 1-1
语种： 中文
被引次数：
WoS核心集被引频次： 0
SCOPUS被引频次：
ESI高被引论文在榜： 0 展开所有
万方被引频次： -1
中文被引频次：
近30日浏览量： 0
归属院系：
理学部
全文获取
外部链接：
