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[会议论文]
α-MoO3原子层包覆TiO2微观结构及充放电性能研究
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摘要：
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种表面高度自限的共形性包覆方法,包覆层厚度一致,均匀性极好1.最近原子层沉积技术被用于包覆锂离子电池正极材料或负极材料,在改善循环稳定性,库仑效率等电化学性能方面作用显著2,本论文研究了负极材料α-MoO3 进行原子层包覆TiO2 的表面微观结构变化以及充放电性能行为.
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来源 ：
年份： 2016
页码： 1-2
语种： 中文
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材料与制造学部 固体微结构与性能研究所
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