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[会议论文]
水环境下电子束刻蚀印刷氧化物半导体的新方法
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随着电子工业的不断发展，半导体器件越来越趋向于微型化。如何实现纳米尺度加工半导体器件，成为目前工业界以及科学研究领域的热点与难点。对于传统半导体光刻蚀与印刷技术，由于受到光的波长限制，其加工极限尺寸往往在百纳米量级。
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2008，环境与健康杂志
1991，北京工业大学学报
2009，武汉理工大学学报
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年份： 2016
页码： 1-1
语种： 中文
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材料与制造学部 固体微结构与性能研究所
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