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作者:

程海娟 (程海娟.) | 郭伟玲 (郭伟玲.) | 马琦璟 (马琦璟.) | 郭浩 (郭浩.) | 秦亚龙 (秦亚龙.)

摘要:

氮化镓(GaN)作为第三代宽禁带半导体材料的代表之一,具有电子饱和速率高、临界击穿电场大、热导率高等优点.GaN基肖特基势垒二极管(SBD)具有工作频率高、导通电阻小、耐高温高压等特点,在电动汽车、数据中心及5G通信技术等领域有广泛的应用前景.综述了GaN基SBD的工作原理,目前面临的主要问题,以及器件设计和结构优化的研究进展,包括横向结构(AlGaN/GaN异质结)SBD的外延、肖特基阳极和终端结构的优化;展示了垂直SBD及准垂直SBD的研究进展;最后,对GaN基SBD的进一步发展进行了总结和展望.

关键词:

准垂直器件 肖特基势垒二极管(SBD) 垂直器件 结构优化 氮化镓(GaN)

作者机构:

  • [ 1 ] [程海娟]北京工业大学
  • [ 2 ] [马琦璟]北京工业大学
  • [ 3 ] [秦亚龙]北京工业大学
  • [ 4 ] [郭浩]北京工业大学
  • [ 5 ] [郭伟玲]北京工业大学

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来源 :

半导体技术

ISSN: 1003-353X

年份: 2022

期: 7

卷: 47

页码: 505-512

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