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作者:

张娇 (张娇.) | 张亚民 (张亚民.) | 冯士维 (冯士维.)

摘要:

GaN基微波功率器件在高电场影响下产生了界面缺陷和陷阱效应,加剧了器件有源区材料的损伤,是造成其在高频、大功率应用下电学参数退化的重要因素.提出了一种基于贝叶斯迭代的时间常数谱的提取方法,通过采集器件漏源电流瞬态响应曲线,精确提取陷阱俘获、释放电子的时间常数.利用阿伦尼乌斯方程计算陷阱和缺陷的激活能,并通过施加不同的电偏置实现了器件纵向结构各材料层中陷阱和缺陷的特性表征.通过实验表征了处于GaN缓冲层和AlGaN势垒层的陷阱特性,发现存在3个不同作用时间常数的陷阱,一个位于AlGaN势垒层,陷阱激活能为0.6 eV;另一个位于GaN缓冲层,陷阱激活能为0.46 eV;第三个位于AlGaN势垒层,陷阱作用的时间常数与温度无关.

关键词:

时间常数谱 瞬态电流法 贝叶斯迭代 GaN基HEMT 陷阱表征

作者机构:

  • [ 1 ] [张娇]北京工业大学
  • [ 2 ] [冯士维]北京工业大学
  • [ 3 ] [张亚民]北京工业大学

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来源 :

半导体技术

ISSN: 1003-353X

年份: 2022

期: 4

卷: 47

页码: 274-280

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