高级检索
检索提示：高级检索多个条件检索时是按照顺序运算的：如 A或B与C 即:(A或B)与C
[专利]
一种去除扫描电镜中非导电样品荷电效应的方法
作者：
收录：
摘要：
一种去除扫描电镜中非导电样品荷电效应的方法涉及扫描电镜领域。为了在不镀膜的条件下看到绝缘样品的真实形貌而又不会产生荷电效应，本专利提出一种消除扫描电镜下观察非导电样品的方法并提出扫描电镜下观察非导电样品的装置。利用该方法可以有效的消除部分样品表面的荷电效应，达到清晰成像的目的。本发明不但省去了复杂的镀膜工艺而且可以在扫描电镜下清楚地反映出绝缘样品形貌。
关键词：
通讯作者信息：
电子邮件地址：
相关关键词：
相关文章：
专利基本信息 ：
专利类型： 发明申请
申请(专利)号： CN202111214492.0
申请日期： 2021-10-19
公开(公告)日： 2022-01-18
公开(公告)号： CN113945599A
申请(专利权)： 北京工业大学
法律状态： 实质审查
被引次数：
WoS核心集被引频次： 0
SCOPUS被引频次：
ESI高被引论文在榜： 0 展开所有
万方被引频次：
中文被引频次：
近30日浏览量： 0
归属院系：
材料与制造学部 本学院/部未明确归属的数据
专利获取
外部链接：
