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一种MoS2/聚电解质杂化纳滤膜及其制备方法，属于膜分离技术领域。包括以下步骤：制备PDDA表面修饰的纳米MoS2；配置阴离子聚电解质溶液和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质溶液；通过阴离子聚电解质和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质之间的静电作用层层自组装技术，得到MoS2/聚电解质杂化纳滤膜。MoS2是一种类石墨烯的二维层状材料，具有独特的片层状结构。制备MoS2过程中，加入聚二甲基二烯丙基氯化铵(PDDA)使其表面荷正电，并提高分散稳定性，在自组装过程中能均匀分散在膜中，得到一种MoS2分散性能较优的杂化纳滤膜，对染料水溶液显示优异的分离去除率和通量。
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Type： 发明授权
Patent No.： CN201710727782.2
Filing Date： 2017-08-23
Publication Date： 2020-08-21
Pub. No.： CN107486045B
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 授权
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