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Xiaodong Han (Xiaodong Han.) | Zhipeng Li (Zhipeng Li.) | Shengcheng Mao (Shengcheng Mao.) | Xiaodong Wang (Xiaodong Wang.) | Chunqiang Zhuang (Chunqiang Zhuang.) | Jianfei Zhang (Jianfei Zhang.) | Qingsong Deng (Qingsong Deng.) | Yadi Zhai (Yadi Zhai.) | Taonan Zhang (Taonan Zhang.) | Ze Zhang (Ze Zhang.)

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一种用于TEM的双倾斜原位纳米压痕平台,属于材料力学性能-微观结构关系在纳米和原子尺度原位表征领域。 平台由粘接区,支撑梁,承载梁,加样台和微型压头组成。 平台整体结构采用半导体微加工技术制备。 原位纳米压痕实验可用双金属带材,V形电热梁,压电陶瓷,静电梳状或形状记忆合金等驱动。 所述样品通过聚焦离子束切割获得。 所述集成平台可以放置在TEM样品架前端的狭窄空间内,造成双轴倾斜的情况。 驱动装置驱动微型压头对TEM中的材料进行原位纳米压痕,原位压缩和原位弯曲等。 可在亚埃,原子,纳米尺度原位观察材料的形变过程,研究材料的形变机理,进而揭示材料微观结构与力学性能的关系。

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专利类型: 发明授权

申请(专利)号: US15510627

申请日期: 2016-11-11

公开(公告)日: 2019-09-10

公开(公告)号: US10410822B2

申请(专利权): Beijing University Of Technology

法律状态: 授权

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