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高志远 (高志远.) | 赵立欢 (赵立欢.) | 张洁 (张洁.) | 薛晓玮 (薛晓玮.) | 邹德恕 (邹德恕.)

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摘要:

一种基于斜向ZnO纳米线/GaN pn结的LED及制备方法,涉及半导体的技术领域。本发明通过在半极性GaN外延层上生长斜向ZnO纳米线阵列,提高LED的光取出率和发光面积,实现在蓝紫光波段的高效发光。其中,半极性面(11‑22)的GaN层包括生长在m面Al2O3衬底上未掺杂的GaN层和其上掺Mg的p型GaN层;ZnO纳米线阵列直接由水热法生长在半极性GaN面上,为n型掺杂,斜向生长,与生长平面的夹角为30~35度;将斜向ZnO纳米线阵列用聚合物填充后,再在其上一层制作导电薄膜,作为负极,而正极位于GaN层上。

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专利基本信息 :

专利类型: 发明授权

申请(专利)号: CN201710481596.5

申请日期: 2017-06-22

公开(公告)日: 2019-04-05

公开(公告)号: CN107342351B

申请(专利权): 北京工业大学

法律状态: 授权

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